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電子工業(yè)純化水設(shè)備
北京EDI超純水設(shè)備流程圖電子研究所EDI超純水項目成套設(shè)備,電子部超純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)(18MΩ*cm,15MΩ*cm,2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四級)
設(shè)計原則: ☆ 品質(zhì)---依照客戶生產(chǎn)所需超純水的水質(zhì)要求及生產(chǎn)特點,并考慮水源的水質(zhì)(需客戶提供水質(zhì)分析報告或源水樣品)。
☆ 可擴(kuò)充性—系統(tǒng)分段設(shè)計規(guī)劃,考慮就近用水和生產(chǎn)安全需要,可依照生產(chǎn)線需求隨時擴(kuò)充產(chǎn)能,客戶可分階段投資。
電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗電子管生產(chǎn) 電子管陰極涂敷碳酸鹽配液 顯像管和陰極射線管生產(chǎn)配料用純水 黑白顯像管熒光屏生產(chǎn) 玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水液晶顯示器的生產(chǎn) 屏面需用純水清洗和用純水配液晶體管生產(chǎn)中主要用于清洗硅片,另有少量用于藥液配制 集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片。
二、典型工藝流程
預(yù)處理系統(tǒng)-反滲透系統(tǒng)-中間水箱-粗混合床-精混合床-純水箱-純水泵-紫外線殺菌器-拋光混床-精密過濾器-用水對象(≥18MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)
預(yù)處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-拋光混床-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥18MΩ.CM)(最新工藝)
預(yù)處理-一級反滲透-加藥機(jī)(PH調(diào)節(jié))-中間水箱-第二級反滲透(正電荷反滲膜)-純水箱-純水泵-EDI裝置-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥17MΩ.CM) (最新工藝)     
預(yù)處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純水箱-純水泵-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥15MΩ.CM)(最新工藝)
處理系統(tǒng)-反滲透系統(tǒng)-中間水箱-純水泵-粗混合床-精混合床-紫外線殺菌器-精密過濾器-用水對象(≥15MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)北京EDI超純水設(shè)備.

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